美国康涅狄格大学研究人员发表研究成果提高单层薄膜材料的性能

美国康涅狄格大学的研究人员将单层半导体薄膜材料进行拉伸后,显着提高了薄膜的性能,对设计新一代柔性电子器件、纳米器件和光学传感器的工程师来说,这一研究成果非常有用。

 

康涅狄格大学Michael Pettes等在Nano Letters期刊上发表文章显示他们的研究成果,六个原子层厚的双硒化钨双层膜在受到应变后光致发光性能增加了100倍。而该材料以前从未表现出这种程度光致发光性能。

 

这一发现标志着科学家首次确切的证明,原子级单层薄膜材料的性能可以通过应力应变来提高。这一发现用来制造更快的计算机处理器和更高效的光学传感器。

 

在这项研究中,Pettes和他实验室的学生Wei Wu等研究人员成功地测量应变对二硒化二硒单晶双层的影响,方法是首先将其封装在丙烯酸玻璃的精细层中,然后在氩气室中加热。(暴露于空气会破坏样品)。这种热处理加强了材料对聚合物基材的粘附力,使得应力应变几乎完美地加载,这在以前的实验中很难实现。

 

Pettes表示:“我们的新方法可以对2-D材料施加2倍的压力,这比之前任何研究报告的都要多,从本质上说,我们已经步跨入了新领域。”

 

Pettes说:“这是第一次有确凿的证据表明,非直接对直接电子带隙过渡的外部控制,我们的研究结果允许计算科学家使用人工智能来设计具有极度抗应变或应变敏感结构的新材料,这对下一代高性能柔性纳米电子学和光电子器件来说非常重要。”

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